鈦在高溫下易於與空氣中（zhōng）的O、H、N等元素及包埋料（liào）中的Si、Al、Mg等元素發生反應，在鑄件表麵形成表麵汙染層，使其優良的理化性能變差，硬（yìng）度增（zēng）加、塑性（xìng）、彈性降低，脆性增加。

鈦（tài）的密度小，故鈦（tài）液流動時（shí）慣性（xìng）小，熔（róng）鈦流動性差（chà）致使鑄流率低（dī）。鑄造溫度與鑄型溫差（chà）(300℃)較（jiào）大，冷卻快，鑄造在保護性氣氛中進行，鈦鑄件表麵和內部（bù）難免有氣孔等缺陷出現，對鑄件的質量影響很大。

因此，鈦鑄件的表麵處理與（yǔ）其它牙用合金相比顯得更為（wéi）重要，由（yóu）於鈦的獨特的理化性（xìng）能，如導熱係數（shù）小、表麵硬度、及彈（dàn）性模量低，粘性大（dà），電導（dǎo）率低（dī）、易氧化等，這（zhè）對鈦的表麵處理帶來（lái）了很大的難度，采（cǎi）用常規（guī）的表麵處（chù）理（lǐ）方法很難達到理想的效果。必須采用特殊的加工方法和操作手段。

鑄件的後期表麵處理不（bú）僅是為了得到平滑光亮的表麵，減少食物及菌（jun1）斑等的積聚和粘（zhān）附，維持患者的正常的口腔微生態的平衡，同時也增加了義齒的美感；更重要的是通過這些（xiē）表麵處理和改性過程，改善鑄件的表麵性（xìng）狀和適合性，提高義齒的耐磨、耐（nài）蝕和抗應力疲勞等理化特性（xìng）。

一、 表麵反應層的去除

表麵反應層是影響鈦鑄件理化（huà）性能的主要（yào）因素，在鈦鑄件研磨拋光前（qián），必須（xū）達到（dào）完全去除表麵汙染層（céng），才（cái）能達（dá）到滿意的拋光（guāng）效果。通過噴（pēn）砂後酸洗的方法可完全去除鈦（tài）的表麵反應層。

1. 噴砂： 鈦鑄件的噴砂（shā）處（chù）理一般選用白剛（gāng）玉粗噴較好，噴砂（shā）的壓力要比非（fēi）貴金屬者較小，一般控製在0.45Mpa以下。因為，噴射壓力過大時,砂粒（lì）衝（chōng）擊鈦表（biǎo）麵產生激烈火花，溫度（dù）升高可（kě）與鈦表麵發生反應,形成二次汙染，影響表麵質量。時間為15~30秒，僅去除鑄件表麵的粘砂、表麵燒結層和部分和氧化層即可。其餘的（de）表麵反應層結構宜采用化學酸洗的方法快（kuài）速去除。

2. 酸（suān）洗： 酸洗能夠快速完全（quán）去除表麵反應層，而表（biǎo）麵不會產生其（qí）他元素的（de）汙染。HF—HCl係和HF—HNO3係酸洗液都可（kě）用於鈦的酸洗，但HF—HCl係酸洗（xǐ）液吸氫量較大，而HF—HNO3係酸洗液吸氫量（liàng）小，可控製HNO3的濃度減少吸氫，並可對表麵進行光（guāng）亮處理，一般HF的濃度在3%~5%左右，HNO3的濃度在（zài）15%~30%左右為宜。

二、鑄造缺陷的處理

內部氣孔和縮孔內部缺陷：可等（děng）熱靜壓技術(hot isostatic pressing)去除, 但對義齒的精度會（huì）產生影響，最好用X線探傷後，表麵磨除暴露氣孔，用激光補焊。表麵氣孔缺陷可直（zhí）接用（yòng）激光局部焊接修補。

三、研磨與拋光

1． 機械研磨： 鈦的化學反應性高，導熱係數（shù）低（dī），粘性大，機械研磨研削比低，且易於磨料磨具發生反應，普通磨料不宜用於鈦的研磨與拋（pāo）光，最好采用導熱性好的超硬磨料，如金剛石、立方氮化硼等，拋光線速度一般為900~1800m/min.為宜，否則，鈦（tài）表麵易（yì）發生研削燒傷和微裂紋。

2． 超聲波研磨： 通過超聲振動作用，使磨頭和被研磨麵間的磨粒與被研磨麵產生相對運動而達到研磨、拋光的（de）目的。其優點（diǎn）在於（yú）常規旋轉工具研磨不到的溝、窩和狹窄部位變得（dé）容易了，但較大的鑄（zhù）件研磨效（xiào）果（guǒ）還不能令人（rén）滿意。

3． 電解機械複（fù）合研磨： 采用導（dǎo）電磨具，在（zài）磨（mó）具與研磨麵之間施加電解液和電壓，通過機械和電化學拋光的共同作用下，降低表（biǎo）麵粗糙度（dù）提高表（biǎo）麵光澤度。電解液為0.9NaCl，電壓為5v，轉速為3000rpm/min.，此方法（fǎ）隻（zhī）能研磨平麵，對（duì）複雜的義齒支架的研磨還處（chù）於研究階（jiē）段。

4． 桶研磨：利（lì）用研磨桶的公轉與自轉（zhuǎn）所產生的離心力，使桶內的義齒與磨料相對摩擦（cā）運動而起到（dào）降低表麵粗糙度的研磨目的。研磨自動化、效率高，但隻能降低（dī）表麵粗糙度而不能提（tí）高表（biǎo）麵光澤度，研（yán）磨的精度較差，可用與義齒精拋（pāo）光前的去（qù）毛刺和粗研磨。

5． 化學拋光：化學拋光是通過金屬在化學（xué）介質中的氧化還原反（fǎn）應而達到整平拋光的目的。其優點是化學拋光與金屬的（de）硬度、拋光（guāng）麵積與結構形狀無關，凡與（yǔ）拋光（guāng）液接觸的部位（wèi）均被拋光，不須特殊複雜設備，操作簡便，較適合（hé）於複雜（zá）結構鈦義齒支架的拋光。但化學拋光的（de）工藝參數（shù）較難控製（zhì），要求在不影響義齒精度的情（qíng）況下能夠對義齒有良好的（de）拋（pāo）光效果（guǒ）。較好的鈦化學拋光液是HF和HNO3 按一定比例配製，HF是還原劑，能（néng）溶（róng）解鈦金屬，起到整平作用，濃度（dù）<10%, HNO3起氧化作用，防止鈦（tài）的溶解過度和吸氫，同（tóng）時可產生光亮作用。鈦拋光液要求濃度高，溫度低，拋光時間短(1~2min.)。

6． 電解拋光：又稱（chēng）為電化學拋光或者陽極溶解拋光，由於（yú）鈦的電導率較低，氧化性能極強，采用有水酸性電解液如HF—H3PO4、HF—H2SO係電（diàn）解液（yè）對鈦幾乎不能拋光，施加外電壓後，鈦陽極立刻發生氧化，而使陽極溶解（jiě）不能進行。但采用（yòng）無水氯化物電（diàn）解液在低（dī）電（diàn）壓下，對鈦有良好的（de）拋光效果，小型試件可（kě）得（dé）到鏡麵（miàn）拋光，但對於複雜修複體仍不能達到完全拋光的目的，也許采用改變陰（yīn）極形狀和附加陰極（jí）的方法能解決這（zhè）一難題，還有待於進一步研究。

四、鈦的表麵改性

1． 氮化：采用（yòng）等離（lí）子體滲氮（dàn）、多弧離子鍍（dù）、離子注入和激光氮化的等化學熱處理技術， 在鈦義齒表麵形成金（jīn）黃色（sè）TiN滲鍍層，從而提高鈦的耐磨性、耐腐蝕性和耐疲勞性（xìng）。但技術複雜，設備昂貴，用於鈦義齒的表麵改性很難達到臨（lín）床實用化。

2． 陽極氧化：鈦的陽極氧化技術較為容易（yì），在一些氧化性介質中，外加電壓的作用下（xià），鈦陽極可形成較厚的氧化膜，從而提（tí）高其耐腐蝕性和（hé）耐磨性和耐候性（xìng）。陽極（jí）氧化的電解液一般采用H2SO4、H3PO4和有機（jī）酸（suān）水溶液。

3． 大氣氧化：鈦在高溫大氣中可形成較厚堅固的無水氧化膜（mó），對鈦的全麵腐蝕、間隙腐（fǔ）蝕都有效，方法比較簡便。

五、 著色

為了增加鈦義齒的美感、防止（zhǐ）鈦義齒在自然條件下的繼續氧化的變色，可采用表麵氮化（huà）處理、大氣氧（yǎng）化和陽極氧化法表麵（miàn）著色處理，使表麵形（xíng）成（chéng）淡黃（huáng）色或金黃（huáng）色，提高鈦義齒的美感。陽極氧化法利用鈦的氧化膜對光的幹涉作用（yòng），自然發色，可通過改變（biàn）槽電壓在鈦表麵形成多彩的顏色。

六、 其他表麵處理

1: 表麵粗化：為了提高（gāo）鈦與（yǔ）飾麵樹脂的粘結性能，必須對（duì）鈦表麵進（jìn）行粗化（huà）處理，提高其粘結麵積。臨床上常采用噴砂粗化處理，但噴（pēn）砂會造成鈦表麵（miàn）的（de）氧化鋁的汙染，我（wǒ）們采用草酸（suān）刻蝕（shí）的方（fāng）法（fǎ），得到良好的粗化效果，刻蝕1h表麵粗糙度（Ra）可（kě）達到1.50±0.30μm，刻蝕2h Ra為2.99±0.57μm，比單獨噴砂的Ra（1.42±0.14μm）提高一倍多，其粘結（jié）強度提高了30%。

2: 抗高溫氧化的（de）表（biǎo）麵（miàn）處理（lǐ）：為了防止（zhǐ）鈦（tài）在高溫下的急劇氧化，在鈦表麵（miàn）形成（chéng）鈦矽化合物及鈦鋁化合物，可防止鈦在700℃以上溫度下的氧（yǎng）化。這種表麵處理對鈦的高溫氧化非常有（yǒu）效，也許鈦表麵（miàn）塗覆這（zhè）類化合物，對鈦瓷結合有（yǒu）利，仍須（xū）進一步研究。